삼성반도체 핵심기술 중국에 빼돌린 전 임원, 혐의 부인

삼성전자가 수조 원을 투입해 독자 개발한 핵심 공정 기술을 빼돌려 중국에서 반도체 제조업체를 세운 혐의로 구속기소된 전직 삼성전자 임원이 첫 재판에서 혐의를 전면 부인했습니다.

중국 반도체 회사 청두가오전의 대표 최 모 씨 측은 오늘(13일) 서울중앙지방법원에서 열린 첫 공판에서, 삼성전자의 기술 유출을 지시한 적도, 보고받은 적도 없다며 문제가 된 기술은 공개된 정부 사이트에서 습득할 수 있는 정도의 정보라고 주장했습니다.

오늘 재판에서는 최 씨의 보석 심문도 이뤄졌는데, 최 씨는 방어권 행사를 위해 보석이 필요하다고 주장했습니다.

삼성전자와 하이닉스반도체에서 부사장을 지낸 최 씨는 삼성전자 개발실장 출신 오 모 씨와 함께 2019년 말 중국 지방정부로부터 4천억 원가량을 투자받아 청두가오전을 설립하고, 삼성전자의 국가 핵심기술을 빼돌린 혐의를 받습니다.

이들은 삼성전자가 개발비 4조 원을 투입해 개발한 국가 핵심기술을 빼돌려 D램 반도체 공정 기술을 1년 6개월 만에 개발해, 중국 내에서 두 번째로 D램 시범 웨이퍼 생산에 성공한 것으로 조사됐습니다.

시범 웨이퍼는 적용한 기술이 실제 반도체로서 기능할 수 있는지 측정하는 기초 개발제품으로, 글로벌 반도체 회사들도 개발에 통상 4∼5년이 소요되는 핵심기술로 알려졌습니다.




YTN 김다현 (dasam0801@ytn.co.kr)